ASML планирует разработать новую схему для производства оборудования по изготовлению передовых чипов большего размера

ASML заявила, что планирует сотрудничать с основными клиентами для разработки новых решений, способных производить оборудование для изготовления самых передовых чипов, чтобы удовлетворить спрос на крупные чипы для дата-центров, спроектированные такими компаниями, как NVIDIA. В настоящее время выпускаемые ASML широко используемые экстримально-ультрафиолетовые (EUV) литографические машины могут производить чипы максимальной площадью около 800 квадратных миллиметров. Новое поколение EUV литографических машин с "высокой числовой апертурой" от ASML позволит создавать более совершенные чипы. Однако по причине использования меньшего маскшаблона, сейчас существует ограничение по максимальной площади производимых чипов. ASML планирует к 2031 году представить экспериментальную производственную линию с маскшаблоном большего размера и вывести эту новую технологию на массовое производство к 2033 году.